DNP développe un procédé de photomasque pour la lithographie EUV à 3 nm

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO : 7912) a mis au point avec succès un procédé de fabrication de photomasque capable de s’adapter au procédé de lithographie à 3 nanomètres (10-9 mètres) qui prend en charge la lithographie dans l’ultraviolet extrême (EUV), le procédé de pointe pour la fabrication de semi-conducteurs. [Contexte] DNP a continuellement répondu aux demandes des fabricants de semi-conducteurs en termes de performance et de qualité. En 2016, nous somm

Mardi 12 décembre 2023, 08h03 - LIRE LA SUITE

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