En Isère, le CEA-Leti poursuit sa collaboration avec le géant néerlandais ASML HOLDING
Le laboratoire de recherche technologique du CEA à Grenoble, accueille un nouvel équipement lithographique pour améliorer les performances de gravure de ces circuits. Financé par le programme européen NextGen, il permettra de réaliser des motifs de l’ordre de la dizaine de nanomètres (10 et 7 nm). Dans la course à la miniaturisation, le […] Lire l'article
