DNP atteint une résolution de motif fine sur les photomasques de lithographie EUV pour la génération au-delà de 2 nm

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO : 7912) a réussi à atteindre la résolution de motif fine requise pour les masques photographiques destinés aux semi-conducteurs logiques de la génération au-delà de 2 nm (nm : 10-9 mètre)1 qui prennent en charge la lithographie dans l’extrême ultraviolet (EUV), un processus de pointe dans la fabrication des semi-conducteurs. DNP a également achevé l’évaluation des critères pour les photomasques compatibles à haute ouverture numér

Jeudi 12 décembre 2024, 09h03 - LIRE LA SUITE

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