DNP accélère le développement d’un processus de fabrication de photomasques pour lithographie EUV de génération 2 nm

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) a commencé à mettre au point un masque photographique pour la fabrication de semi-conducteurs logiques de génération 2 nanomètres (10-9 mètres) qui prend en charge la lithographie dans l’ultraviolet extrême (EUV), le processus de pointe pour la fabrication de semi-conducteurs. DNP agira également en tant que sous-traitant et fournira la nouvelle technologie développée à Rapidus Corporation (Rapidus), basée à Tokyo. Rapidus

Mercredi 27 mars 2024, 11h03 - LIRE LA SUITE

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